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光刻胶成分元素
半导体核心材料—
光刻胶
概述
答:
3)溶剂:是光刻胶中最大成分
,目的是使光刻胶处于液态,但溶剂本身对光刻胶的化学性质几乎无影响。4)助剂:通常是专有化合物,主要用来改变光刻胶特定化学性质。2、光刻胶主要分类 根据应用领域,光刻胶可分为半导体光刻胶、LCD光刻胶和PCB光刻胶,其技术壁垒依次降低(半导体光刻胶> LCD光刻胶...
什么是pr和pi
光刻胶
?
答:
1. 化学成分:PR
光刻胶是指以光致聚合物为主要成分的光刻胶,例如苯乙烯基物质,其分子链中含有双键,通过紫外光照射后,发生光致聚合反应。而PI光刻胶是指以聚酰亚胺(Polyimide)为主要成分的光刻胶,其分子结构含有聚酰亚胺骨架。2. 性能特点:PR光刻胶具有较高的分辨率和较低的敏感度,可以实现更...
光刻胶
是什么材料做的
答:
1、增感剂 是光刻胶的关键成分
,对光刻胶的感光度、分辨率起着决定性作用。2、感光树脂 用于将光刻胶中不同材料聚合在一起,构成光刻胶的骨架,决定光刻胶的硬度、柔韧性、附着力等基本属性。3、溶剂 是光刻胶中最大成分,目的是使光刻胶处于液态,但溶剂本身对光刻胶的化学性质几乎无影响。其...
光刻胶是什么材料
光刻胶成分
答:
2、
树脂
,作为粘合剂的聚合物混合物,决定了光刻胶的机械和化学性能;光敏化合物,决定了光刻胶的光敏感度:当受到特定波长能量束作用后,光敏化合物会分解或者聚合,激发化学反应,使受辐照区域在某些特定溶液中的溶解特性发生改变,或溶解性被增强或变得更难溶,进而形成光刻胶图案;溶剂,则可以改变光...
光刻胶
的主要
成分
答:
感光树脂
,作为基础的聚合骨架,由聚合剂构建,它决定了胶体的硬度、柔韧性和附着力,塑造了光刻胶的物理特性;溶剂则是这个魔术配方中的主要成分,它使得光刻胶保持流动性,尽管其自身的化学性质对胶体影响微乎其微;而助剂,作为独家秘方,通过调整特定化学性质,赋予光刻胶个性化的性能,让每一种胶都有...
光刻胶
是什么东西
答:
光刻胶是指通过紫外光、电子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、
增感剂
和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中,用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时,若采用适当的有选择性的光刻胶,可在表面上得到所需的图像。光刻胶按其...
光刻胶
是什么材料 起什么作用
答:
材料:由感光树脂、
增感剂
和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。作用:在光刻工艺过程中,用作抗腐蚀涂层材料。光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。半导体材料在表面加工时,若采用适当的有选择性...
光刻胶
水耐腐蚀吗
答:
1.
光刻胶水
的主要
成分
是丙烯酸酯和丙烯酸,这类有机物对腐蚀性条件较敏感。2. 光刻胶在强酸、强碱等腐蚀性环境下会发生水解反应,降解产生低分子物质。3. 光刻胶本身吸湿性较大,有机物在含水条件下也易发生水解。4. 光刻胶表面会吸附微粒物质,在腐蚀条件下这些物质会促进光刻胶的降解。5. 镀铜...
光刻胶
属于什么板块
答:
按显示效果分类,
光刻胶
可分为正性光刻胶和负性光刻胶。按照曝光波长分类,光刻胶可分为紫外光刻胶(300~450nm)、深紫外光刻胶(160~280nm)、极紫外光刻胶(EUV,13.5nm)、电子束光刻胶、离子束光刻胶、X 射线光刻胶等。按行业分类,可分为PCB光刻胶、面板光刻胶、半导体光刻胶。目前...
光刻胶
的作用
答:
4.
光刻胶成分
光刻胶一般由4部分组成:树脂型聚合物(resin/polymer),溶剂(solvent),光活性物质(photoactive compound,PAC),添加剂(Additive)。 其中,树脂型聚合物是光刻胶的主体,它使光刻胶具有耐刻蚀性能;溶剂使光刻胶处于液体状态,便于涂覆;光活性物质是控制光刻胶对某一特定波长光/...
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