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氮化铝的制取
氮化铝
(AlN)是新型的电子绝缘基片材料,用于大型和超大型集成电路中.某...
答:
若两装置交换位置,则气体中的水不能被吸收;(2)根据信息:在高温下氮气、碳和三氧化二铝反应可以生成
氮化铝
粉和一氧化碳,装置D中发生反应化学方程式为:N2+3C+Al2O3 △ . 2AlN+3CO;乙组:把氨气通入盛有氧化铜的玻璃管i,
氮和铝可以直接化合
制取氮化铝
吗
答:
不可以,要用三氧化二铝和氮气以及碳一起反应。
氮化铝
是一种很稳定的物质,如果纯粹用两个单质,首先熵是减小的,我估计焓多半先是大于0(后半句是猜测,可以在网上查一查),这种反应难以自发进行。并且反应速率上固体与气体反应也不会很快。
一道化学题
答:
上述反应方程式:
AlN+NaOH+H2O=NaAlO2+NH3(氨气要写气体符号)Al2O3+2NaOH=2NaAlO2+H2O
跟剧化学反应方程式可得氮化铝和氨气的物质的量相同,标况下氨气3.36升即为0.15mol,所以氮化铝也为0.15mol,即氮化铝的质量为0.15*41=6.15g,所以氮化铝的质量分数为61.5%。
高二化学
答:
①上述反应生成的化学方程式为——AlN + NaOH + H2O === NaAlO2 + NH3(气体符号)②该样品中的AlN的质量分数为?析,由氨气的量求
氮化铝的
量,再除于总质量 成百分之百 。设AlN质量为x AlN + NaOH + H2O === NaAlO2 + NH3(气体符号 31g 22.4L x 3.36L 31g/x=22.4L/3.36L 解...
氮化铝
(AlN)是一种新型无机材料,广泛应用于集成电路生产领域.某氮化铝...
答:
(5)
氮化铝
中含有碳或氧化铝杂质,氧化铝易溶于NaOH溶液,而实验结束后,若观察到锥形瓶中还有固体,说明固体不溶于氢氧化钠溶液,所以杂质是碳;(6)根据每22.4L氨气质量为17g,计算出氨气的体积为aL的质量: 17a 22.4 ,设生成这些氨气,需要参加反应的氮化铝质量为X则:AlN+NaOH+H ...
氮化铝
(AlN)陶瓷是一种类金刚石的新型无机非金属材料.超细氮化铝粉末被...
答:
问题1:反应物中有氧化铝固体可能未反应完而留在AlN中,故答案为:Al2O3;问题2:由于AlN跟氢氧化钠溶液反应生成NaAlO2、并放出NH3,其反应方程式为:
AlN+NaOH+H2O=NaAlO2+NH3↑
,生成NH3的物质的量为3.36L22.4L/mol=0.15mol,根据氮元素守恒可知10.00g样品中含有AlN的物质的量为0.15mol,AlN...
氮化铝
(AlN)广泛用于电子工业、陶瓷工业等领域.可通过如下反应
制取
:A...
答:
反应Al 2 O 3 +N 2 +3C 高温 . 2AlN+3CO中N元素化合价降低,被还原,N 2 为氧化剂,C元素化合价升高,被氧化,C为还原剂,Al和O元素的化合价没有变化,该反应中每生成2molAlN,有1molN 2 参加反应,得到电子的物质的量为2×(3-0)mol=6mol,故选C.
氮化铝
(AIN)是一种新型无机材料,广泛应用于集成电路生产领域.某化学研 ...
答:
反应后广口瓶的上方留有的少量空间填充的是氨气,氨气代替了开始的空气,把最后空间中冲入的氨气当成开始时的空气即可,所以对实验结果没有影响,故答案为:不变;(5)
氮化铝
中含有碳或氧化铝杂质,氧化铝易溶于NaOH溶液,而实验结束后,若观察到锥形瓶中还有固体,说明固体不溶于氢氧化钠溶液,所以...
氮化铝
(AlN)广泛应用于电子、陶瓷等工业等领域。在一定条件下,AlN可...
答:
铝的
化合价为+3,A项错误;B.摩尔质量的单位为g/mol,B项错误;C.上述反应中,N 2 是氧化剂,Al 2 O 3 既不是氧化剂也不是还原剂,C项正确;D.上述反应中,每生成1 mol AlN需转移3mol电子,D项错误。点评:本题考查氧化还原反应的应用,应注意摩尔质量的单位为g/mol而不是g。
氮化铝
(AlN)陶瓷是一种类金刚石氮化物的新型无机非金属材料,最高可稳...
答:
AlN+NaOH+H2O=NaAlO2+NH3↑
;故答案为:AlN+NaOH+H2O=NaAlO2+NH3↑;(4)C+2H2SO4(浓浓) △ . CO2+2SO2+2H2O,生成的气体中二氧化碳占13,故二氧化碳的物质的量为0.01mol,即碳的质量为0.12g,所以该粗氮化铝中碳的质量分数为0.12g10g×100%=1.2%.故答案为:1.2%.
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