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芯片光刻机原理
为什么ASML的EUV
光刻机
能如此赚钱?
答:
EUV
光刻机
是什么:它是
芯片
生产中的核心设备,通过极紫外光作为光源,以实现更高精度的芯片电路复制。光刻机的工作
原理
类似于胶片冲洗,掩膜版就像胶片,光刻机则是冲洗台,将电路图案从掩膜版复制到光刻胶上,然后刻蚀到晶圆上。为何需要EUV光刻:传统的193nm DUV光刻已经接近极限,而EUV光刻机能利用...
芯片
为什么要用
光刻机
答:
1、
光刻机
(Mask Aligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System.2、因为
芯片
远比这小得多,动不动就是nm的,这些最小也就是μm级别,那么到底是什么刻刀能做到这么精细。所以就想到了,用光线在芯片上刻,就是光刻机。3、...
EUV
光刻机
的13.5nm光源是如何实现的?
答:
然而,由于极紫外辐射在大气中传播时会被吸收,所以需要在
光刻机
内部建立一个真空环境,以便极紫外辐射能够到达光刻机的光学系统。至于为什么是13.5nm不是其他的波长,引用一篇论文:目前,极大规模集成电路
芯片
的工业生产主要采用193nn激光光刻技术,其刻线的最小尺寸已小于16nm,已经接近理论极限。为了...
光刻机原理
是什么,为何在我国如此重要?
答:
光刻机原理
是什么,为何在我国如此重要?一台EUV光刻机售价一亿美金以上,比很多战斗机的售价都要贵。先进的光刻机必须要用到世界上最先进的零件和技术,并且高度依赖供应链全球化,荷兰的ASML用了美国提供的世界上最好的极紫外光源,德国蔡司世界上最好的镜片和光学系统技术,还有瑞典提供的精密轴承。另...
接近式
光刻机
和步进式光刻机的区别
答:
接近式
光刻机
和步进式光刻机是两种常见的光刻机类型,它们的区别和优缺点如下:区别:1. 工作
原理
:接近式光刻机是通过将掩模与光刻胶直接接触,然后使用紫外光照射来进行图案转移;而步进式光刻机是通过将掩模与光刻胶分开,然后使用光束扫描的方式进行图案转移。2. 精度:接近式光刻机通常具有较高...
我国既然能制造出原子弹,可为啥造不出高端
光刻机
?
答:
因此,
光刻机
对于制造
芯片
有着非常重要的作用,麒麟芯片、AMD芯片等等都是通过光刻机制作出来的。光刻机的工作
原理
和硅晶片有一定的关联,因为硅晶片拥有一层光致的抗蚀剂,当紫外光照射到硅晶的表面时就会与之产生反应,这种反应被称作时光刻。当反应发生结束后,需要将没有被光致的抗蚀剂保护的部分...
光刻机
哪个国家能造
答:
2. 全球能够生产
光刻机
的国家包括荷兰、中国、日本、美国和韩国。在这些国家中,荷兰ASML公司生产的光刻机在精度上居于世界领先地位。3. 光刻机的工作
原理
类似于照相机的冲印过程。它通过曝光,将掩模上的微观电路图案转移到硅片上,从而实现
芯片
的制造。4. 光刻机在技术上的先进性直接关系到芯片制造的...
光刻机
和刻蚀机的区别
答:
刻蚀相对光刻要容易。
光刻机
把图案印上去,然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案(或者没有图案)的部分,留下剩余的部分。“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆(或者叫硅片)上盖上事先做好的光刻板,然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射。
原理
就是利用紫外线使部分光刻胶变质,易于腐蚀。...
什么是
光刻机
?
答:
光刻机
采用类似照片冲印的技术,能够把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。ASML是全球领先的半导体设备制造商,其先进的光刻机技术被广泛应用于
芯片
制造过程中。2018年,美国要求ASML停止向中国出售光刻机,因此中国芯片企业开始发出声音,要求ASML承担损失。由于美国拥有对ASML的技术掌控和影响力...
光刻胶和
光刻机
有什么区别
答:
主要
原理
是
光刻机
利用特殊光线将集成电路映射到硅片表面,并要避免在硅片表面留下痕迹,需要在硅片表面涂上一层特殊的物质光刻胶。因此,光刻胶是光刻机研发的重要材料,而且它不止应用于
芯片
,在高端面板、模拟半导体、发光二极管、光电子器件以及光子器件上也广泛应用。
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