第1个回答 2019-10-31
光敏印章是上个世纪九十年代初由日本发明的，它是由一种特殊的化工合成材料，通过专用设备瞬间发出强光辐射，使材料表面发生光氧化及热交联作用从而制成的印章。
光敏印章的面世可以说是印章行业的一次革命，完全颠覆了传统印章的凹凸成像原理。利用特殊感光材料制成。具有成像极其清晰，在使用光敏印章的时候无需印泥，即印即干。
扩展资料：
光敏技术指的是利用光敏材料的感光特性进行印章制作的方法。专用的光敏材料是一种超微泡材料，其表面的微孔孔径非常小，平均孔径小于30微米。
本身具有储油渗油及光闪熔特性。光敏材料在受到强光照射的时候，可以吸收光能并转换成热能，颜色越暗吸收的能量越多。
曝光时，光敏材料表面见光部分瞬间吸收大量的光能后，温度迅速上升并达到熔点，闪光结束后，表面熔体的温度迅速降低，形成一定厚度和强度的薄膜，这层薄膜同时起到封孔闭孔的作用，并隔绝印油的渗透。这就是光敏章成像的原理。
参考资料来源：百度百科—光敏印章
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