1、光敏印油与原子印油合成材料不同
光敏印油指的是光敏印章专用印油，具有印油不易沉降，颜色鲜艳，色密度高的特点；印鉴清晰均匀，不洇纸，渗透速度快，即印即干，耐高温、耐低温，稳定性强，与印垫和印章壳不发生不良反应，并可重复注油的特点。
原子印油，它由合成树脂、颜料、表面活性剂、植物油、矿物油、高沸点溶剂按比例配合加工而成，主要用于原子印章盖印时的补充。
2、光敏印油与原子印油特征不同。
光敏印特征：即盖即干。印章表面为平面（即边、线、字、面都是平面，而不是传统凸字），制作上已具有保护作用。可说当今最先进最实用 的印章。
原子印特征：整块内容由原子印油固化而成，表面材质较软，易损坏，使用中力度大容易变形。边线字即印章内容为凸字。
原子印油不能加到光敏章里，原子印油加注了光敏印章会导致加盖后扩散十分严重。光敏印油加原子章，会导致凝固，导致原子印章无法加盖。
扩展资料
光敏印油原理：
光致抗蚀剂 用于光加工工艺的光敏高分子，通称光致抗蚀剂（又称光刻胶），大量用于印刷制版和电子工业的光刻技术中。它的工作原理是受光部分发生交联，生成难溶性的硬化膜，经加工成负像（负性胶）；或者是原来的不溶性胶受光照后变为可溶性的，经加工得正像（正性胶）。
通常用的光致抗蚀剂有：
聚肉桂酸酯型，例如聚乙烯醇肉桂酸酯，由聚乙烯醇和肉桂酰氯在吡啶溶剂中合成，配制的光刻胶称KPR。
在紫外线作用下,肉桂酸酯的双键发生光化学二聚反应，形成交联，转变为不溶性物质。KPR是最早用于光刻的一种光致抗蚀剂,通常加入5－硝基苊等作为光敏剂。
丙烯酰基型,其线型聚合物不能得到优良的图像，所以实用体系都由预聚体和单体组成，同时进行聚合和交联。
通常交联单体和预聚体是一元或多元的丙烯酸酯、丙烯酰胺和丙烯酸氨基甲酸酯类。例如，由这类单体交联剂制成的聚酯和尼龙感光树脂版，已能用来代替铜、锌凸版。
参考资料来源：百度百科-光敏印油
参考资料来源：百度百科-原子印油
合成材料不同，特征不同。
原子印油，它由合成树脂、颜料、表面活性剂、植物油、矿物油、高沸点溶剂按比例配合加工而成，主要用于原子印章盖印时的补充。
光敏印油指的是光敏印章专用印油，具有印油不易沉降，颜色鲜艳，色密度高的特点；印鉴清晰均匀，不洇纸，渗透速度快，即印即干，耐高温、耐低温，稳定性强，与印垫和印章壳不发生不良反应，并可重复注油的特点。
原子印油不能加到光敏章里，因为原子印油加注了光敏印章会导致加盖后扩散十分严重。
光敏印油加原子章，会导致凝固，导致原子印章无法加盖。
扩展资料：
光敏印油原理：光致抗蚀剂 用于光加工工艺的光敏高分子，通称光致抗蚀剂（又称光刻胶），大量用于印刷制版和电子工业的光刻技术中。
它的工作原理是受光部分发生交联，生成难溶性的硬化膜，经加工成负像（负性胶）；或者是原来的不溶性胶受光照后变为可溶性的，经加工得正像（正性胶）。
通常用的光致抗蚀剂有：
①聚肉桂酸酯型，例如聚乙烯醇肉桂酸酯，由聚乙烯醇和肉桂酰氯在吡啶溶剂中合成，配制的光刻胶称KPR。在紫外线作用下,肉桂酸酯的双键发生光化学二聚反应，形成交联，转变为不溶性物质。KPR是最早用于光刻的一种光致抗蚀剂,通常加入5－硝基苊等作为光敏剂。
②丙烯酰基型,其线型聚合物不能得到优良的图像，所以实用体系都由预聚体和单体组成，同时进行聚合和交联。通常交联单体和预聚体是一元或多元的丙烯酸酯、丙烯酰胺和丙烯酸氨基甲酸酯类。
③叠氮型，叠氮化物光解，生成活泼的一价氮化物,很容易偶合或与碳-氢键、双键反应。用于光敏树脂的叠氮化物均为稳定的芳族化合物。双叠氮化合物是一种光交联剂(如下式所示)，能引起许多高聚物交联。 例如叠氮-环化橡胶就是一种常用的光致抗蚀剂。
④重氮盐类和邻偶氮醌型光敏高分子，也是常见的光致抗蚀剂。
参考资料来源：百度百科-光敏印油
参考资料来源：百度百科-原子印油