1. 光刻机在芯片制造中扮演着至关重要的角色,它是半导体生产流程中的一款关键设备。
2. 根据应用领域的不同,光刻机可以分为多种类型:其中包括用于生产集成电路芯片的极紫外光(EUV)光刻机,用于封装的紫外光光刻机,以及用于LED生产的投影光刻机。
3. 在中国的半导体产业中,极紫外光(EUV)光刻机是中国半导体设备制造领域亟需突破的技术短板。
4. 光刻机,也被称为掩模对准光刻机、掩模对准曝光机或光刻系统,是一种精密的曝光设备。
5. 目前业界普遍使用的是掩模对准光刻技术,这种技术的核心是掩模与硅片之间的精准对准。
6. 光刻工艺通常包括多个步骤:硅片清洗、烘干、涂覆光刻胶、软烘烤、掩模对准曝光、后烘烤、显影、硬烘烤和刻蚀等。
7. Photolithography(光刻)技术利用光的作用将设计图案转移到硅片上,这一过程是实现电路或器件结构从掩模转移到硅片的关键步骤。
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