专利权保护优于商业秘密

如题所述

法律主观:企业在保护科技成果时,可以选择专利保护或商业秘密保护,这两种措施有显著差异:
1. 产生方式不同:专利需通过申请并获取国家授权,而商业秘密仅需权利人对其未公开的技术采取保密措施,即可产生。
2. 财产权性质不同:专利是独占性财产权,首个申请并获得批准的人享有专有权。商业秘密权利人没有独占性,同一项商业秘密可由多个权利人同时拥有。
3. 保护时限不同:专利权有时间限制,如我国专利法规定,发明专利权期限为20年,实用新型和外观设计专利权期限为10年。商业秘密权无时间限制,只要保持保密状态,即可持续受到保护。
4. 保护方式不同:专利通过技术公开和限制使用保护,商业秘密则通过保密措施和控制知悉范围保护。根据技术特性,选择合适的保护方式至关重要。
鉴于商业秘密可能蕴含巨大利益,企业和个人常试图窃取,因此权利人必须保持警惕,防范潜在的侵权行为。
法律客观:根据《专利法》第四十二条,发明专利权期限为20年,实用新型为10年,外观设计为15年,均从申请日开始计算。对于因新药上市审评审批占用时间而导致的专利权期限损失,可给予最长不超过五年的补偿,使得新药批准上市后的总有效专利权期限不超过14年。
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