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半导体硅片匀胶的作用是什么
如题所述
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推荐答案 2012-01-14
匀胶的作用主要是讲光刻胶涂平,利用高速旋转的离心力。
匀胶的时候你可以看到滴到Wafer上的一滴液体(匀胶后会高温处理,蒸发掉其中水分,定型,说是固体,其实还是比较软的,后面plasma ETCH之前一般会有一步UVbake,进行加固)由中心向外侧扩散,一圈一圈的,直至完全变平。
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其他回答
第1个回答 2012-01-15
保证硅片表面光刻胶的平整度,以免影响到光刻的精度和质量。
第2个回答 2012-01-13
在硅片表面均匀的涂上一层光刻胶,再进行曝光、显影,将光罩上的图形转移的光刻胶上,为后续的刻蚀、注入工艺服务。
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半导体
设备有哪些?
答:
在实际制造中,
它主要的作用是通过机械研磨和化学液体溶解“腐蚀”的综合作用,对被研磨体(半导体)进行研磨抛光
。 6、光刻机 又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等,常用的光刻机是掩膜对准光刻,一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。在硅片...
光刻机的工作原理
是什么
?
答:
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硅片
表面
匀胶
,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。并不是单纯的激光,其曝光系统基本上使用的是复杂的紫外光源...
光刻机是干
什么
用的
答:
光刻机是芯片制造的核心设备之一,按照
用途
可以分为好几种:有用于生产芯片的光刻机;有用于封装的光刻机;还有用于LED制造领域的投影光刻机,同时用于生产芯片的光刻机是中国在
半导体
设备制造上最大的短板。光刻机(MaskAligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光...
硅片的
用处
是什么
?
答:
随着我国对外开放、经济环境的日益宽松,现在技术、资本、设备都成套地被引进来,
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,但对于其它方面并没有什么太多的影响,因为这种引进并没有改变我国集成电路的技术工业基础,在核心技术层面上并没有使我们与先进水平缩短什么差距。讲一个我们亲身经历的事儿。首...
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